SSB300系列步进光刻机


SSB300

SSB300系列步进投影光刻机主要应用于2~6英寸基底先进光刻领域,可满足Micro/Mini LED、新型化合物半导体器件和MEMS等芯片制程的光刻工艺需求。
  产品特征

高产率

SSB320和SSB380机型可提供53.5mm×33mm超大曝光视场,并配置了高速传输系统、高速高精度运动台系统和高照度照明系统,实现高产率,显著降低客户拥有成本。

高分辨率

SSB300系列光刻机提供多种投影物镜配置,分辨率可达到0.8~2μm,并具有大焦深和高线宽均匀性等特点,在大规模量产中有效提升产品良率。

高精度套刻

SSB300系列光刻机拥有高精度MVS对准系统、高精度工件台定位系统和低畸变投影物镜,保证了高精度套刻性能。其中对准系统支持特征图形标记和光栅标记,并可选配红外或可见光背面对准方式,满足客制化需求。

工艺适应性强

采用独特的在线Mapping技术,快速准确地拟合出基底面型,可有效增大工艺窗口。提供选配可变狭缝,可实现一块掩模分为多个区域曝光,降低工艺研发费用,且与Aligner匹配时不增加额外芯片损失。
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