SSB200大Mask系列曝光机


SSB260/10

SSB200大Mask系列曝光机主要应用于AMOLED和LCD等显示屏的制造,满足量产线的各种高精度曝光工艺需求。
  产品特征

高精度

采用精密的光学系统、大行程运动台和先进的测校等技术,保证设备实现大扫描曝光场的同时具有高分辨率和高套刻精度等性能。

大剂量下高产率

具有高透过率的投影曝光系统,可在玻璃基板上实现高照度曝光,提升大剂量曝光时的产率。

工艺适应性强

可选配多种对准光源波长,适应各种曝光工艺工况。

独特的气浮传输结构

独特的气浮传输结构和载台,能有效减少交叉污染且无Pin Mura,助力提升良率。
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