SHM800一体化散射套刻量测设备


SHM800

SHM800套刻测量设备基于散射光信号测量套刻误差。SHM800系列产品主要用于先进工艺(55nm~7nm)工艺段,可以实现快速、高精度的套刻测量,配合工艺控制系统和光刻机提升晶圆制造工程中套刻性能,改善工艺控制能力。
  产品特征

满足Logic,Memory,Dram等先进工艺的套刻需求

可实现大量套刻测量点位的高速测量

兼容微标记,满足先进节点In-die测量

提供多维度可调节配置,具备优秀的工艺适应性

提供工艺条件下的测量条件自动优选功能

可提供光刻量测一体化解决方案,提升套刻稳定性

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