SSB200小Mask系列曝光机


SSB260/20T

SSB200小Mask系列曝光机主要应用于AMOLED和LCD等显示屏的制造,满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
  产品特征

高精度

精密的光学系统和先进的测校等技术,保证设备高分辨率,支持新型显示屏的高精度曝光。

低使用成本

较低的运营和维护费用:采用标准6英寸掩模(或其加长版),2倍放大成像,显著降低掩模费用。

可拼接曝光大尺寸屏

采用精密的拼接策略,依靠优良的控制能力,可实现更大尺寸显示屏幕的拼接曝光。

工艺适应性强

支持多种基板尺寸,可选配红外等多种对准光源波长,适应各种曝光工艺工况。具有多达45片工位的掩模版库,每片独立版盒,对生产制造非常方便。
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